型 號(hào)：ZEISS Crossbeam 540
產(chǎn) 地：德國(guó)
性能指標(biāo)：電子束分辨率0.9nm@15kV, 1.8nm@1kV；離子切割精度3.5nm，束流1pA~100nA；探測(cè)器：BSE(2個(gè))、SE(2個(gè))、X射線(xiàn)能譜、EBS
主要功能（用途）：納米精度、微米視域的三維成像（形貌、密度），微、納米精度的二維成像（形貌、密度），微米精度的二維、三維元素分析。
聯(lián)系人：孫朗秋
聯(lián)系電話(huà)：010-89739103
測(cè)試項(xiàng)目 |
校內(nèi)價(jià)格 |
對(duì)外價(jià)格 |
SEM手動(dòng)圖像采集 |
800元/小時(shí) |
1150元/小時(shí) |
SEM自動(dòng)拼圖 |
800元/小時(shí) |
1150元/小時(shí) |
FIB-SEM三維成像 |
1600元/小時(shí) |
2300元/小時(shí) |
EDS能譜分析 |
18元/點(diǎn) |
25元/點(diǎn) |
EDS元素面分布 |
40元/面 |
60元/面 |
